OASIS®は、次世代のマスクレイアウト形式である、SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International）を標準としたものです
マスクレイアウトデータ形式としては、GDS-IIストリームフォーマットが永く業界標準として使われてきましたが、LSIの大規模化に伴い、そのデータ量が爆発的に巨大化してきました。そこでSEMI北米地区Microlithography委員会傘下のData Path Task Force によって、2001 年の秋以来、GDS-IIの後継フォーマットを定義するための活動が実施されてきました。その後継フォーマットは、「階層構造を有する集積回路のマスクレイアウト情報のための相互交換およびカプセル化のフォーマットを定義すること」を目的として開発されました。そして、Mentor Graphics Croporationの提案をもとに、業界関係者によるグローバルなコンセンサスが得られ、2003 年末、「SEMI P39 - OASIS®（Open Artwork System Interchange Standard ）」として正式に標準化されました
OASISを使うと、マスクレイアウトのデータ量が、GDS-IIに比べて約1/20に縮小されます。
OASISmark
これを受けて、株式会社半導体先端テクノロジーズ（Selete）は、可変形成ビーム（VSB）方式電子線（EB）描画装置向けのマスクハンドリングデータ形式の統一化を、2004年から始めました
その目的は、EB描画装置のメーカーや機種により異なるデータ形式を共通化し、マスクデータ処理のフローを簡素化することと、同時にOASISと同様にデータサイズを削減することでした
その成果はOASIS NEOとしてまとめられ、図のような各機種に共通のEB描画データ処理のフローが完成しました
その後OASIS NEOをもとに、SEMI標準「SEMI P44 - Specification for Open Artwork System Interchange Standard (OASIS®) Specific to Mask Tools（OASIS.MASK）」が制定されています。
このフロー構築、検証に際して、SeleteではOASISフォーマットの設計データを多数作成しました。当社は、そのデータのライセンスを受け、これらをまとめてOASISmark2005としてパッケージ化しました
- OASISデータを扱うEDAツールの新規開発時のテスト
- OASISデータを扱うEDAツール導入時またはバージョンアップ時の機能・性能評価
このデータは、OASISフォーマットの学習等でお使いいただくことができます
ケイレックス・テクノロジーは、株式会社半導体先端テクノロジーズより代理販売権を得て、OASISmark2005を販売しています
